Identifiant pérenne de la notice : 260845396
Notice de type
Personne
An innovative kinetic model allowing insight in the moderate temperature chemical
vapor deposition of silicon oxynitride films from tris(dimethylsilyl)amine / Konstantina
Christina Topka, Hugues Vergnes, Tryfon Tsiros, Paris Papavasileiou, Laura Decosterd,
Babacar Diallo, François Senocq, Diane Samélor, Nadia Pellerin, Marie-Joëlle Menu,
Constantin Vahlas, Brigitte Caussat. Chemical Engineering Journal, 2022, 431(3),
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