Identifiant pérenne de la notice : 030031192
Notice de type Rameau
Étude et correction des effets de proximité et de topographie en lihographie par faisceau
d'électrons : réalisation d'un simulateur / A. Ouabbou, 1993 [mémoire]
Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet
Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial
Equivalent dans un autre référentiel
Terme équivalent dans un autre système : Lithography, Electron beam
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2017-02-09
Code du système ou de la classification utilisé : LCSH
Terme équivalent dans un autre système : Lithographie par faisceau d'électrons
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2014-09-12
Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval