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Identifiant IdRef : 030031192Copier cet identifiant (PPN)
Notice de type Rameau

Point d'accès autorisé

Lithographie par faisceau d'électrons

Variantes de point d'accès

Lithographie à faisceau d'électrons
[Nom commun]
Lithographie électronique
[Nom commun]

Source

Étude et correction des effets de proximité et de topographie en lihographie par faisceau d'électrons : réalisation d'un simulateur / A. Ouabbou, 1993 [mémoire]

Autres identifiants

Identifiant BNF : FRBNF121530191

Utilisation dans Rameau

Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet
Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial

Equivalent dans un autre référentiel

Terme équivalent dans un autre système : Lithography, Electron beamDate de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2017-02-09URI : http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85077608Code du système ou de la classification utilisé : LCSH
Terme équivalent dans un autre système : Lithographie par faisceau d'électronsDate de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2014-09-12Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval

... Références liées : ...