Lithographie par rayons X

Lithographie par rayons X

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Élément EAD

Identifiant pérenne de la notice : 031377114

URI de l'entité : http://www.idref.fr/031377114/id

Notice de type Rameau

Point d'accès autorisé

Lithographie par rayons X

Variante de point d'accès

Lithographie aux rayons X

[Nom commun]

Termes génériques

Microélectronique

Photolithographie

Rayons X, Applications industrielles

Source

Lithographie par rayons-X à très haute résolution : contribution à l'étude de la fabrication de structures nanométriques AlGaAs/GaAs par implantation ionique / R. K. Kupka, 1995 [microforme]

Lithographie profonde par rayons-X sur rayonnement synchroton / Z. Liu, 1997 [mémoire]

Identifiants externes

Identifiant ARK BNF : http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb122603554

Utilisation dans Rameau

Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet

Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial

Equivalent dans un autre référentiel

Terme équivalent dans un autre système : Lithographie par rayons X

Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2014-09-12

Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval

Terme équivalent dans un autre système : X-ray lithography

Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2017-02-09

URI : http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85148736

Code du système ou de la classification utilisé : LCSH

Informations sur la notice

Identifiant de la notice : 031377114

RCR créateur de la notice : 0004

Date de création : 26-08-1992

RCR dernier modificateur de la notice : 341720001

Date de dernière modification : 16-06-2021 à 16 h 53

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