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1992-10-15
2023-06-13T06:10:46
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Résines photosensibles
Films photopolymères
Films photosensibles
Résists photosensibles
Vernis photosensibles
Laques photosensibles
Pellicules photosensibles
Photorésines
Photorésists
Réserves anti-acides
Réserves antiacides
Réserves photosensibles
Résists optiques
Photolithographie
Résines photoréticulables
Microélectronique
540
600
Méthodologie de sélections de colorants pour microlithographie : application aux systèmes bicouches PMMA et PMGI / par Gilles Amblard / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1991
Etude des propriétés physico-chimiques de surfaces microstructurées : application à la fabrication de verres organiques ophtalmiques digitaux / Feng Shi ; sous la direction d'Alain Lamure / [S.l.] : [s.n.] , 2006
Matériaux photopolymères avancés et systèmes de photo-amorçages pour l'impression 3D / Tuba Kavalli ; sous la direction de Jacques Lalevée et de Fabrice Morlet-Savary / Mulhouse : Université de Haute Alsace , 2019
Les applications des fluides supercritiques en microélectronique : Retrait de la résine photosensible et nettoyage de matériaux de très faible permittivité / Céline Millet ; sous la direction de Christian Guizard / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2004
Etude des systèmes photosensibles utilisés comme mémoires optiques : approches photochimique et holographique / Lafond Christophe ; sous la direction de Bolte Michèle, Lessard Roger A. / [S. l.] : [s. n.] , 2002
Développement technologique de composants microfluidiques intégrés à base de résine SU-8 : application à l'analyse de protéines par spectrométrie de masse / par Julien Carlier ; sous la direction de : P. Tabourier, co-directeur de thèse : J.C. Camart / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2004
Contribution à l'intégration des convertisseurs de puissance en 3D = = Contribution to the 3D integration of the power converters2 : / par Ludovic Ménager ; sous la direction de Bruno Allard et Vincent Bley / [S.l.] : [s.n.] , 2008
Etude d'un procédé de lithographie par faisceau d'électrons utilisant la silylation sélective en phase vapeur / par Thierry Vachette ; sous la direction de Dan A. Lerner / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1990
Etude de la dégradation de la protection par des résines photosensibles de la grille métallique TiN lors de gravures humides pour la réalisation de transistors de technologies sub-28nm / Mathieu Foucaud ; sous la direction de Erwine Pargon / , 2015
Étude de l'exposition de résines photosensibles positives utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs / Francoise Renou-Hassine ; [sous la direction de Jean] Faure / [Lieu de publication inconnu] : [éditeur inconnu] , 1986
Procédés lithographiques pour les technologies des semi-conducteurs inférieures à 90nm : de la synthèse à l’étude des mécanismes physicochimiques induisant la rugosité des motifs / Esma Ismailova ; [sous la direction de] Georges Hadziioannou / , 2009
Développement d'une résine thermoplastique photopolymérisable dans le cadre d'une application photocomposite / Vincent Charlot ; sous la direction de Xavier Allonas / , 2015
Développement d'une résine thermoplastique photopolymérisable dans le cadre d'une application photocomposite / Vincent Charlot ; sous la direction de Xavier Allonas / Mulhouse : Université de Haute Alsace , 2015
Planarisation de structures multicouches en technologie bipolaire de circuits intégrés à haute densité d'intégration / par Sabine Hazebrouck Sabine ; [sous la direction de E. Constant] / [S.l.] : [s.n.] , 1991
Systèmes photoamorceurs et modèle pour la fabrication additive par photopolymérisation / Boris Metral ; sous la direction de Christian Ley et de Xavier Allonas / , 2020
Photoreactive polymers : the science and technology of resists / Arnost Reiser,... / New York : J. Wiley & Sons , cop. 1989, cop. 1989
Procédés lithographiques pour les technologies des semi-conducteurs inférieures à 90nm : de la synthèse à l'étude des mécanismes physicochimiques induisant la rugosité des motifs / Esma Ismailova ; [sous la direction de] Georges Hadziioannou / Lille : Atelier national de reproduction des thèses , 2009
Contribution à l'intégration des convertisseurs de puissance en 3D = = Contribution to the 3D integration of the power converters2 : / par Ludovic Ménager ; sous la direction de Bruno Allard et Vincent Bley / Lille : Atelier national de reproduction des thèses , 2008
Etude des propriétés et des mécanismes de mise en forme des résines photolithographiques pour une application capteurs d'images CMOS avancés / Stéphanie Audran ; [sous la direction de] Georges Hadziioannou / [S.l.] : [s.n.] , 2007
Diazonaphthoquinone-based resists / Ralph Dammel / Bellingham, Wash. : SPIE Optical Engineering Press
Développement d'un microsystème étirable pour l'étude de l'activité électrique de cellules neuronales sous contrainte mécanique / Tiffany Baëtens ; sous la direction de Vincent Thomy et de Steve Arscott et de Emiliano Pallecchi / , 2019
Films réinscriptibles sur supports souples / Fanny Tricot ; sous la direction de Nathalie Destouches / , 2016
Rôle des molécules phénoliques dans la photopolymérisation : application à des résines de finition pour le bois / Moustapha Sylla ; sous la direction de André Merlin / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2001
Etude des phénomènes physiques limitant les transferts d'images en lithographie optique submicronique / par Gilles Festes ; sous la direction de Jean-Claude Portal / [S.l] : [s.n] , [1992]
Etude des systèmes photosensibles utilisés comme mémoires optiques : approches photochimique et holographique / Lafond Christophe ; sous la direction de Bolte Michèle, Lessard Roger A. / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2002
Caractérisation et modélisation des effets d'empilement des couches minces sous la résine photosensible pendant le procédé de photolithographie optique / Jean-Christophe Michel ; sous la direction de Alexandre Tishchenko / , 2014
Conception, réalisation et caractérisation des microcanaux pour les applications microfluidiques [Ressource électronique] / par Matthieu Gaudet,... ; [directeur de thèse : Jean-Christophe Camart ; co-encadrant : Lionel Buchaillot] / Villeneuve d'Ascq : Université des sciences et technologies de Lille , 2007
Méthode de fabrication additive endoscopique par photopolymérisation pour la réparation in-situ de systèmes en espace contraint / Marcel Nassif ; sous la direction de Erwan Dupont et de Frédéric Lamarque / , 2022
Synthèse de nouveaux précurseurs de type tétrathiafulvalène utilisables dans les domaines de la microlithographie et des matériaux organiques conducteurs / par Driss Serhani / [S.l.] : [s.n.] , [1992]
Contribution à l'intégration des convertisseurs de puissance en 3D [Texte imprimé] = = Contribution to the 3D integration of the power converters : / par Ludovic Ménager ; sous la direction de Bruno Allard et Vincent Bley / Villeurbanne : Doc'INSA , 2009
Méthodologie de sélections de colorants pour microlithographie : application aux systèmes bicouches PMMA et PMGI / par Gilles Amblard / [S.l.] : [s.n.] , [1991]
Conception, réalisation et caractérisation des microcanaux pour les applications microfluidiques / par Matthieu Gaudet,... ; [directeur de thèse : Jean-Christophe Camart ; co-encadrant : Lionel Buchaillot] / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2006
Etude des propriétés physico-chimiques de surfaces microstructurées [Ressource électronique] : application à la fabrication de verres organiques ophtalmiques digitaux / Feng Shi ; sous la direction d'Alain Lamure / Toulouse : INP Toulouse , 2011
Microscopie optique en champ proche utilisant une sonde diffusante : étude de singularités électromagnétiques sur surfaces photosensibles : application à la nanophotolithographie / par Fekhra H'Dhili ; [sous la dir.] de R. Bachelot,... / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 2002
Photo-sensitive Natural Rubber Applied for Utilization in Stereolithography 3D Printing / Wasan Tessanan ; sous la direction de Philippe Daniel et de Pranee Phinyocheep / , 2022
Prothèses provisoires fixées : étude sur les matériaux photopolymérisables / Jean-Jacques Barbé ; sous la dir. de Jean-Jacques Guyonnet / [S.l.] : [s.n.] , 2002
Photoresist : materials and processes / W. S. DeForest / New York : McGraw-Hill , [1975]
Caractérisation de couches photosensibles à l’aide de l’ellipsométrie / David Maarek / [s.l.] : [s.n.] , 2004
Investigation of interpenetrating polymer networks and recent UV curable chemistries / Milena De Brito ; sous la direction de Céline Croutxé Barghorn et de Xavier Allonas / , 2011
Microlithographie : détermination de la composition de l'HPR-204. Formulation de résines homologues / par Andriampanananjato Rasolovoahangy / [S.l.] : [s.n.] , [1992]
Optimisation des paramètres des résines photosensibles utilisées dans la fabrication des circuits intégrés / par Claude Fournière / Paris : CNAM , 1974
Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène / par Marc Servera / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1990
Etude des propriétés physico-chimiques de surfaces microstructurées : application à la fabrication de verres organiques ophtalmiques digitaux / Feng Shi ; sous la direction d'Alain Lamure / Lille : Atelier national de reproduction des thèses , 2006
Contribution à l'étude des résines photosensibles et applications / Jean-Pierre Prillard / [s.l] : [s.n] , 1974
Etude des propriétés et des mécanismes de mise en forme des résines photolithographiques pour une application capteurs d'images CMOS avancés / Stéphanie Audran ; [sous la direction de] Georges Hadziioannou / Lille : Atelier national de reproduction des thèses , 2007
Microelectronics technology : polymers for advanced imaging and packaging / Elsa Reichmanis [et al.], editor / Washington, DC : American Chemical Society , 1995
Microscopie optique en champ proche utilisant une sonde diffusante : étude de singularités électromagnétiques sur surfaces photosensibles : application à la nanophotolithographie / par Fekhra H'Dhili ; [sous la dir.] de R. Bachelot,... / [S.l.] : [s.n.] , 2002
Préparation et utilisation au microscope électronique de films "haute-résolution" / par Jacqueline Unal, ... / [S.l.] : [s.n.] , 1966
Étude de l'exposition de résines photosensibles positives utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs / Francoise Renou-Hassine ; [sous la direction de Jean] Faure / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1986
Rôle des molécules phénoliques dans la photopolymérisation : application à des résines de finition pour le bois / Moustapha Sylla ; sous la direction de André Merlin / , 2001
Préparation et propriétés dans l'infrarouge lointain de films épitaxiques d'arseniure de gallium / Izeddine Zorkani ; Sous la direction de A. Hadni / , 1985
Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène / par Marc Servera / [S.l.] : [s.n.] , [1990]
Procédés lithographiques pour les technologies des semi-conducteurs inférieures à 90nm [Ressource électronique] : de la synthèse à l’étude des mécanismes physicochimiques induisant la rugosité des motifs / Esma Ismailova ; [sous la direction de ] Georges Hadziioannou / Strasbourg : Université de Strasbourg , 2009
Micro- and nanopatterning polymers / Hiroshi Ito, editor ... [et al.] / Washington, DC : American Chemical Society , c1998
Conception, réalisation et caractérisation des microcanaux pour les applications microfluidiques / par Matthieu Gaudet,... ; [directeur de thèse : Jean-Christophe Camart ; co-encadrant : Lionel Buchaillot] / [S.l.] : [s.n.] , 2006
Etude de l'acidité des matériaux photosensibles utilisés en microlithographie : application aux polymères phénoliques et aux composés diazonaphtoquinones / par Didier Demattei / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1991
Synthèse, caractérisation et mise en œuvre d'un matériau hybride organique-inorganique photosensible de type résine positive : application à la fabrication de dispositifs de microfuidique par écriture Laser / Elias Mechref ; sous la direction de Sylvie Calas et de Doumit Zaouk et de Jihane Jabbour et de Pascal Etienne / , 2015
Les applications des fluides supercritiques en microélectronique : Retrait de la résine photosensible et nettoyage de matériaux de très faible permittivité / Céline Millet ; sous la dir. de Christian Guizard / [S.l.] : [s.n.] , 2004
Résines pour la photolithographie UV-profonde à base de solutions aqueuses de polysaccharides issus de la biomasse / Olha Sysova ; sous la direction de Olivier Soppera et de Jean-Louis Leclercq / , 2023
Etude de l'acidité des matériaux photosensibles utilisés en microlithographie : application aux polymères phénoliques et aux composés diazonaphtoquinones / par Didier Demattei / [S.l.] : [s.n.] , [1991]
Synthèse de nouveaux précurseurs de type tétrathiafulvalène utilisables dans les domaines de la microlithographie et des matériaux organiques conducteurs / par Driss Serhani / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1992
Matériaux photopolymères avancés et systèmes de photo-amorçages pour l'impression 3D / Tuba Kavalli ; sous la direction de Jacques Lalevée et de Fabrice Morlet-Savary / , 2019
Etude des phénomènes physiques limitant les transferts d'images en lithographie optique submicronique / par Gilles Festes ; sous la direction de Jean-Claude Portal / [S.l] : [s.n] , [1992]
Investigation of interpenetrating polymer networks and recent UV curable chemistries / Milena De Brito ; sous la direction de Céline Croutxé Barghorn et de Xavier Allonas / Mulhouse : Université de Haute Alsace , 2011
Functional Photopolymer Materials for High-resolution 3D Lithography and Nano-optics / Ying Peng ; sous la direction de Renaud Bachelot et de Safi Jradi / , 2017
Microlithographie : détermination de la composition de l'HPR-204. Formulation de résines homologues / par Andriampanananjato Rasolovoahangy / Grenoble : Atelier national de reproduction des thèses , 1992
Développement technologique de composants microfluidiques intégrés à base de résine SU-8 : application à l'analyse de protéines par spectrométrie de masse / par Julien Carlier ; directeur de thèse : P. Tabourier, co-directeur de thèse : J.C. Camart / [S.l.] : [s.n.] , 2004
Les résines photopolymérisables : applications et intérêts dans la reconstitution esthétique des dents antérieures / Sylvie Gérard / , 1981
Étude de l'exposition de résines photosensibles positives utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs / Françoise Renou-Hassine le 1986 [ Paris 11 ]
Investigation of interpenetrating polymer networks and recent UV curable chemistries / Milena De Brito le 2011 [ Mulhouse ]
Etude des propriétés et des mécanismes de mise en forme des résines photolithographiques pour une application capteurs d'images CMOS avancés / Stéphanie Audran le 2007 [ Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008) ]
Caractérisation et modélisation des effets d'empilement des couches minces sous la résine photosensible pendant le procédé de photolithographie optique / Jean-Christophe Michel le 2014 [ Saint-Etienne ]
Synthèse, caractérisation et mise en œuvre d’un matériau hybride organique-inorganique photosensible de type résine positive : application à la fabrication de dispositifs de microfuidique par écriture Laser / Elias Mechref le 2015 [ Montpellier ]
Développement d'une résine thermoplastique photopolymérisable dans le cadre d'une application photocomposite / Vincent Charlot le 2015 [ Mulhouse ]
Films réinscriptibles sur supports souples / Fanny Tricot le 2016 [ Lyon ]
Etude des systèmes photosensibles utilisés comme mémoires optiques : approches photochimique et holographique / Christophe Lafond le 2002 [ Clermont-Ferrand 2 ]
Etude de la dégradation de la protection par des résines photosensibles de la grille métallique TiN lors de gravures humides pour la réalisation de transistors de technologies sub-28nm / Mathieu Foucaud le 2015 [ Université Grenoble Alpes (ComUE) ]
Microlithographie : détermination de la composition de l'HPR-204. Formulation de résines homologues / Andriampanananjato Rasolovoahangy le 1992 [ Montpellier 2 ]
Procédés lithographiques pour les technologies des semi-conducteurs inférieures à 90nm : de la synthèse à l’étude des mécanismes physicochimiques induisant la rugosité des motifs / Esma Ismailova le 2009 [ Strasbourg ]
Résines pour la photolithographie UV-profonde à base de solutions aqueuses de polysaccharides issus de la biomasse / Olha Sysova le 2023 [ Mulhouse ]
Les applications des fluides supercritiques en microélectronique : Retrait de la résine photosensible et nettoyage de matériaux de très faible permittivité / Céline Millet le 2004 [ Montpellier 2 ]
Contribution à l'intégration des convertisseurs de puissance en 3D / Ludovic Ménager le 2008 [ Lyon, INSA ]
Planarisation de structures multicouches en technologie bipolaire de circuits intégrés à haute densité d'intégration / Sabine Hazebrouck le 1991 [ Lille 1 ]
Rôle des molécules phénoliques dans la photopolymérisation : application à des résines de finition pour le bois / Moustapha Sylla le 2001 [ Nancy 1 ]
Etude des propriétés physico-chimiques de surfaces microstructurées : application à la fabrication de verres organiques ophtalmiques digitaux / Feng Shi le 2006 [ Toulouse, INPT ]
Etude de l'acidité des matériaux photosensibles utilisés en microlithographie : application aux polymères phénoliques et aux composés diazonaphtoquinones / Didier Demattei le 1991 [ Montpellier 2 ]
Functional Photopolymer Materials for High-resolution 3D Lithography and Nano-optics / Ying Peng le 2017 [ Troyes ]
Méthodologie de sélections de colorants pour microlithographie : application aux systèmes bicouches PMMA et PMGI / Gilles Amblard le 1991 [ Montpellier 2 ]
Systèmes photoamorceurs et modèle pour la fabrication additive par photopolymérisation / Boris Metral le 2020 [ Mulhouse ]
Microscopie optique en champ proche utilisant une sonde diffusante : étude de singularités électromagnétiques sur surfaces photosensibles : application à la nanophotolithographie / Fekhra H'Dhili le 2002 [ Troyes ]
Synthèse de nouveaux précurseurs de type tétrathiafulvalène utilisables dans les domaines de la microlithographie et des matériaux organiques conducteurs / Driss Serhani le 1992 [ Montpellier 2 ]
Développement d'un microsystème étirable pour l'étude de l'activité électrique de cellules neuronales sous contrainte mécanique / Tiffany Baëtens le 2019 [ Université de Lille (2018-2021) ]
Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène / Marc Servera le 1990 [ Montpellier 2 ]
Matériaux photopolymères avancés et systèmes de photo-amorçages pour l’impression 3D / Tuba Kavalli le 2019 [ Mulhouse ]
Méthode de fabrication additive endoscopique par photopolymérisation pour la réparation in-situ de systèmes en espace contraint / Marcel Nassif le 2022 [ Compiègne ]
Photo-sensitive Natural Rubber Applied for Utilization in Stereolithography 3D Printing / Wasan Tessanan le 2022 [ Le Mans ]
Conception, réalisation et caractérisation des microcanaux pour les applications microfluidiques / Matthieu Gaudet le 2006 [ Lille 1 ]
Développement technologique de composants microfluidiques intégrés à base de résine SU-8 : application à l'analyse de protéines par spectrométrie de masse / Julien Carlier le 2004 [ Lille 1 ]