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Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Cardinaud, Christophe

Information

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Langue d'expression : Français
Pays : France
Genre : Masculin

Notes

Note publique d'information : 
Chargé de recherche CNRS à l'IMN Nantes en 2001

Note publique d'information : 
Directeur de recherche CNRS à l'IMN, Institut des matériaux de Nantes en 2009

Source

Limites imposées par les procédés de gravure plasma lors de la réalisation d'une structure double damascène : rugosité en fond de ligne des diélectriques poreux et intégration des barrières auto-positionnées / Fanny Bailly [thèse] ; sous la direction de Christophe Cardinaud

Procédés de gravure de SiO2 en plasmas denses fluorocarbonés pour des applications en nano- et micro-technologies / Freddy Gaboriau [thèse]; sous la dir. de Christophe Cardinaud

Autres identifiants

Identifiant ORCID : 0000-0002-9753-8848
Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/190559745

Utilisation dans Rameau

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