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URI de l'entité : http://www.idref.fr/120339072/idCopier cet URI
Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Tillocher, Thomas (1980-....)

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    1980
Genre : Masculin

Notes

Note publique d'information : 
Docteur en Physique des plasmas à l'Université d'Orléans (en 2006)

Note publique d'information : 
Enseignant-chercheur à l'Université d'Orléans et membre du Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (en 2021)

Identifiants externes

Identifiant HAL : thomas-tillocher
Identifiant ORCID : 0000-0002-9160-5595
Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/219525164
Identifiant SCOPUS : 9742075200
Identifiant ISNI : 0000000359470376

Source

Gravure profonde du silicium par le procédé cryogénique / par Thomas Tillocher, 2006
https://www.univ-orleans.fr/fr/gremi/thomas-tillocher, 2021-12-09

Information trouvée : Enseignant-chercheur à l'Université d'Orléans et membre du Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (GREMI)

... Références liées : ...