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Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Sungauer, Elodie (1982-.... ; auteure en micro- et nano-électronique)

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    1982
Date de début d'activité : 2009
Genre : Féminin

Notes

Note publique d'information : 
Titulaire d'un doctorat de l'Université Joseph Fourier de Grenoble, spécialité "micro et nanoélectronique"

Identifiants externes

Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/202287072
Identifiant ISNI : 0000000357890262

Source

Etude et développement de procédés de gravure plasma de HfO2 pour l'élaboration de transistors CMOS sub-45nm[Thèse imprimée 2009] / Elodie Sungauer

... Références liées : ...