Identifiant pérenne de la notice : 142894265
Notice de type
Personne
Cryo-Atomic Layer Etching by plasma: mechanisms and processes / Gaëlle Antoun, sous
la direction de Dussart Rémi et Thomas Tullocher, membre du jury Emilie Despiau-Pujo.
Thèse de doctorat : chimie : Orléans : 2020
Information trouvée : Emilie Despiau-Pujo enseignante-chercheuse, université Grenoble-Alpes
Gravure des semi-conducteurs III-V par plasmas inductifs chlorés / par Emilie Despiau-Pujo.
Thèse, Palaiseau, 2009
Information trouvée : Auteur d'une thèse en Physique des plasmas à l'Ecole polytechnique de Palaiseau
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