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Identifiant IdRef : 191817767Copier cet identifiant (PPN)
Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Gouraud, Pascal

Information

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Langue d'expression : Français
Pays : France

Notes

Note publique d'information : 
Directeur de thèse en Nanoélectronique et nanotechnologie à Grenoble Alpes en 2016

Source

Development and characterization of plasma etching processes for the dimensional control and LWR issues during High-k Metal gate stack patterning for 14FDSOI technologies / Onintza Ros Bengoetxea ; sous la direction de Erwine Pargon et Pascal Gouraud. Thèse de doctorat : Nanoélectronique et nanotechnologie : Grenoble Alpes : 2016

Information trouvée : Ingénieur, STMicroelectronics, co-encadrant de thèse

Autres identifiants

Utilisation dans Rameau

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