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URI de l'entité : http://www.idref.fr/194104451/idCopier cet URI
Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Vagos, Pedro (19..-....)

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    19XX
Genre : Masculin

Notes

Note publique d'information : 
Membre de jury de thèse en Nanoélectronique et nanotechnologie à Grenoble Alpes en 2015

Identifiants externes

Identifiant VIAF : https://viaf.org/viaf/399146822286607381564

Source

Amélioration des méthodes de contrôle dimensionnel et d'alignement pour le procédé de lithographie à double patterning pour la technologie 14 nm / Damien Carau ; sous la direction de Cécile Gourgon, Maxime Besacier et Christophe Dezauzier. Thèse de doctorat : Nanoélectronique et nanotechnologie : Grenoble Alpes : 2015

Information trouvée : Ingénieur, Nanometrics Incorporated, Chennevières

... Références liées : ...