cx r22 2 45 204954878 http://www.idref.fr/204954878 20171020 20250419014956.000 0499 0499 Tr2 20171020afrey50 ba0 fre 639-2 1991 k fre 0 # # AFNOR Oeuvre Textuelle ba0yba0 Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD en vue de greffage chimique, Application à un ISFET PH ba0yba0y Le premier objectif de cette thèse est de déposer sur de la silice thermique une fine couche d'oxynitrure de silicium (sio#xn#yh#z préparée par pecvd (plasma enhanced chemical vapor deposition). Cette membrane doit être à la fois sensible aux protons et facilement modifiable par greffage chimique. De plus, elle devrait être une bonne barrière de diffusion. Il est possible de contrôler le nombre de sites de surfaces (si#2nh, sinh#2, sih) en faisant varier le débit des gaz utilisés lors de dépôt (sih#4, nh#3, n#2o) et de le vérifier par spectroscopie ir. La réponse au ph de la structure si/sio#2/sio#1#,#6#4n#0#,#4#1h#0#;#4#9 a été déterminée par des mesures c(v): 60 mv/ph. Apres un greffage chimique sur les sites sinh/nh#2 de longues chaines alkyles (c18) pour rendre la membrane insensible aux protons, la réponse au ph n'est plus que de 15 mv/ph. De plus une méthode d'impédance électrochimique a été proposée permettant de suivre la qualité de l'encapsulation des isfets. Nous avons travaillé en mode potentiostatique en superposant une tension sinusoïdale à fréquence variable. Avant le disfonctionnement des isfets, trois étapes ont pu être observées. Thèse de doctorat Électronique Ecully, Ecole centrale de Lyon 1991 ba0yba0 Study of PECVD Silicon Oxynitride thin layers as isfet and refet memranes for PH detection 071524169 ba0yba04 Chovelon Jean-Marc 1962-.... 070 067830439 ba0yba04 Jaffrezic-Renault Nicole 19..-.... 727 033894221 ba0yba04 École Centrale de Lyon 1857-.... 295 088209423 ba0yba04 Laboratoire de physique chimie des interfaces Ecully, Rhône 981 027222004 Capteurs (technologie) rameau 032989873 Nitrure de silicium rameau 02786992X Électrodes sélectives d'ions rameau 027282295 Couches minces rameau ba0yba0 027253139 Thèses et écrits académiques rameau ISFET Oxynitrure de silicium PECVD Sensibilité en PH Greffage chimique 530 TEF 620 TEF FR Abes 20250419 AFNOR