Patentgesetz, unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags, mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmerfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen

Patentgesetz, unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags, mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmerfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen

data.idref

Export biblio

Identifiant pérenne de la notice : 218863829

URI de l'entité : http://www.idref.fr/218863829/id

Notice de type Notice de regroupement

Point d'accès autorisé

Patentgesetz, unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags, mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmerfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen

Variante de point d'accès

Patentgesetz, unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags, mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen

[Notice de regroupement]

Information

Langue d'expression : allemand

Date de parution : 2003

Notice d'autorité liée

Informations sur la notice

Identifiant de la notice : 218863829

RCR créateur de la notice : 0499

Date de création : 22-10-2017

RCR dernier modificateur de la notice : 0499

Date de dernière modification : 19-01-2025 à 01 h 28

... Références liées : ...