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URI de l'entité : http://www.idref.fr/224710451/idCopier cet URI
Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Godey, Sylvie (19..-....)

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    19XX
Genre : Féminin

Notes

Note publique d'information : 
Titulaire d'un doctorat en Physique (Université d’Orléans, 1999)

Note publique d'information : 
Ingénieur de recherche au sein du groupe "Plateforme de Microscopie en Champ Proche" (PCMP-PCP) à l'Institut d'Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie de Lille (IEMN UMR CNRS 8520 - Université de Lille)

Identifiants externes

Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/105152380154201762472
Identifiant HAL : sylvie-godey
Identifiant ORCID : 0000-0003-2406-3519

Source

Etude des cavités et des dislocations créées par implantation d'hélium à haute énergie dans le silicium : intérêt pour le piègeage d'impuretés métalliques / Sylvie Godey [thèse]
Internet, https://www.iemn.fr/les_plateformes/plateforme-de-caracterisation-multi-physique-pcmp/staff-pcmp, 2023-06-27

... Références liées : ...