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Modélisation du dépôt electroless de cuivre

Information

Langue d'expression : français
Date de parution :  2003

Notes

Note publique d'information : 
La miniaturisation des composants électroniques a conduit l'industrie microélectronique à modifier certains matériaux utilisés et leur technologie d'élaboration. La réduction de la taille des contacts en aluminium est à l'origine des problèmes d'échauffement et d'exo diffusion dans les couches actives des composants. L'aluminium a été remplacé par le cuivre car il possède une conductivité plus élevée. La modification de la nature et de la taille des contacts sont à l'origine d'un changement de leur technique d'élaboration. Le dépôt electroless a été retenu en substitution des dépôts PVD. Notre travail s'intéresse à la modélisation du dépôt electroless de cuivre en premier, dans le cas d'un transfert diffusif pur, et en second, dans le cas d'un transfert diffusif-convectif. Ce travail a été précédé d'une phase expérimentale qui a permis de déterminer la cinétique des réactions de dépôt et de valider les résultats du modèle. Le dépôt electroless dans des tranchées a été aussi étudié.


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