Résines photosensibles

Résines photosensibles

data.idref

Élément EAD

Identifiant pérenne de la notice : 031461174

URI de l'entité : http://www.idref.fr/031461174/id

Notice de type Rameau

Point d'accès autorisé

Résines photosensibles

Variantes de point d'accès

Films photopolymères

[Nom commun]

Films photosensibles

[Nom commun]

Résists photosensibles

[Nom commun]

Vernis photosensibles

[Nom commun]

Laques photosensibles

[Nom commun]

Pellicules photosensibles

[Nom commun]

Photorésines

[Nom commun]

Photorésists

[Nom commun]

Réserves anti-acides

[Nom commun]

Réserves antiacides

[Nom commun]

Réserves photosensibles

[Nom commun]

Résists optiques

[Nom commun]

Terme générique

Microélectronique

Notices d'autorité liées

Autre Photolithographie (Voir aussi)

Autre Résines photoréticulables (Voir aussi)

Identifiants externes

Identifiant ARK BNF : http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb12267274t

Utilisation dans Rameau

Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet

Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial

Equivalent dans un autre référentiel

Terme équivalent dans un autre système : Résines photosensibles

Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2003-07-15

Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval

Terme équivalent dans un autre système : Photoresists

Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2017-02-09

URI : http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85101409

Code du système ou de la classification utilisé : LCSH

Informations sur la notice

Identifiant de la notice : 031461174

RCR créateur de la notice : 0004

Date de création : 15-10-1992

RCR dernier modificateur de la notice : 1999

Date de dernière modification : 13-06-2023 à 06 h 10

... Références liées : ...